Companhia Huawei patenteou um dos componentes importantes usados em sistemas EUV-litografia (litografia ultravioleta extrema), que é necessário para a criação de processadores de alta classe em um processo tecnológico de até 10 nm. Ele resolve o problema dos padrões de interferência criados pela luz ultravioleta, que de outra forma tornariam a placa irregular.
A empresa está na fase final de produção de microcircuitos Huawei resolveu o problema causado por minúsculos comprimentos de onda de luz ultravioleta extrema. A patente da empresa descreve uma série de espelhos que dividem um feixe de luz em vários sub-feixes que colidem com seus próprios espelhos microscópicos.
Atualmente, os sistemas de litografia EUV são produzidos exclusivamente pela empresa holandesa ASML. Eles são baseados nos mesmos princípios das formas mais antigas de litografia, mas usam luz com um comprimento de onda de cerca de 13,5 nm, que é quase um raio-X. O ASML gera luz ultravioleta a partir de gotículas de estanho fundido em movimento rápido com cerca de 25 mícrons de diâmetro.
"Durante o outono", explica a ASML, "as gotas primeiro caem sob um pulso de laser de baixa intensidade, que as achata em uma panqueca. Um pulso de laser mais poderoso vaporiza a gota achatada, criando um plasma que emite luz ultravioleta. Para produzir luz suficiente para fazer microchips, esse processo é repetido 50 vezes por segundo.
A ASML levou mais de € 6 bilhões e 17 anos para desenvolver o primeiro lote de máquinas de litografia EUV que poderiam ser vendidas. Mas o governo dos EUA pressão exercida do governo holandês, para que a empresa não exportasse a novidade para a China, e o país se limitasse à tecnologia mais antiga DUV (ultravioleta profundo). Atualmente, apenas cinco empresas usam ou anunciaram planos de usar sistemas de litografia ASML EUV: Intel e Micron nos EUA, Samsung e SK Hynix na Coréia do Sul e TSMC em Taiwan.
empresas chinesas como Huawei, anteriormente podiam enviar seus projetos para fábricas como a TSMC para serem fabricados usando litografia EUV. Mas desde que os EUA introduziram sanções contra a China, torna-se quase impossível. No entanto Huawei ainda precisa de acesso a nós avançados que usam litografia EUV para continuar a melhorar os processadores. Portanto, agora a empresa pretende construir seus próprios sistemas EUV e está obtendo capital e apoio suficientes do governo. Mas ainda precisa de muito tempo.
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